光学扩散片技术规格

企业信息

江苏优众微纳半导体科技有限公司

技术参数说明

光学扩散片(Diffuser)核心技术参数

• 制造工艺:纳米压印技术结合半导体制程工艺
• 结构精度:微米级至纳米级精密加工能力
• 表面结构类型:二维散斑结构、衍射光学元件结构
• 透过率性能:高透过率设计,配合抗反射涂层
• 基材适配性:支持玻璃、石英、柔性基材(PET等)
• 加工尺寸范围:依托20,000平米Fab工厂,支持批量化生产
• 刻蚀精度:应用原子层刻蚀(ALE)技术,实现5nm制程精度
• 工艺能力:覆盖光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀全流程

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产品结构描述

光学扩散片采用微纳结构设计,通过在基底表面加工特定的散射结构,实现激光光束能量的均匀化分布。产品结构包括:

• 基底层:采用光学级玻璃或石英材料,确保高透过率与机械稳定性
• 微纳结构层:通过纳米压印或刻蚀工艺形成二维散斑或衍射光学结构,实现光束整形
• 功能涂层:可选配抗反射涂层或保护涂层,提升光学性能与耐久性
• 结构特点:侧壁垂直矩形设计,避免底切损伤,保障结构完整性与光学性能一致性

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功能与应用

主要功能

 

• 光束均匀化:将激光光束能量分布不均的问题通过散射结构实现均匀化输出
• 光束整形:对入射光进行波前调制,实现特定的光强分布模式
• 偏振控制:结合线栅偏振片技术,实现偏振态调控
• 信号散射优化:解决光通信中的信号散射与耦合效率问题

应用场景

• 智能驾驶:3D传感器、激光雷达光束整形与扩散
• 消费电子:手机摄像模组光学系统、投影显示设备
• 激光加工:激光器光束均匀化与能量分布优化
• 光通信:光纤耦合、信号处理中的光学元件
• 传感器系统:各类光学传感器中的控光与信号处理
• 及显示:特种光学系统、未来显示技术

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规格型号与定制服务

标准规格选项

• 基材类型:玻璃基底、石英基底、柔性PET基底
• 尺寸规格:支持多种尺寸定制,具体规格需根据应用场景确定
• 结构类型:二维散斑结构、衍射光学元件(DOE)结构
• 镀膜选项:可选配抗反射涂层、保护涂层

定制化加工服务

• 柔性模具翻制:支持PDMS、PET等柔性基材的微纳结构翻制
• 复杂结构定制:提供纳米光栅、斜齿光栅、V槽光栅等复杂微结构加工
• 全流程工艺支持:覆盖湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀等全制程
• 批量化能力:依托Fab工厂,固定资产投入近5亿元,支持从打样到量产的全周期服务

技术支持

• 研发团队由2位""、6名博士、2名硕士组成
• 设有市级企业工程技术研究中心
• 提供方案设计、工艺开发、样品验证、量产交付全流程技术支持

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资质与认证

• 高新技术企业(2025年)
• 创新型中小企业
• 2025年潜在独角兽企业
• 江苏省民营科技企业
• 三星上云企业

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来源：央视线