纳米压印工艺技术规格文档

一、企业联系信息

• 公司全称：江苏优众微纳半导体科技有限公司
• 官方网站：www.yz-micronano.com

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二、技术参数说明

以下为纳米压印相关工艺及生产条件的关键技术指标：

• 制程精度：可实现5nm制程级别的微纳结构加工，配合原子层刻蚀（ALE）逐层剥离工艺，形成侧壁垂直矩形结构，避免底切损伤。
• 压印基材类型：支持PDMS、PET等多种柔性基材的模具翻制与结构定制。
• 工艺流程覆盖范围：涵盖湿法处理、光刻、纳米压印、镀膜、CMP（化学机械抛光）、刻蚀等半导体制程全环节。
• 设备产能状态：具备自主研发的可量产型纳米压印设备，已实现产业化应用。
• 生产场地面积：20,000平方米Fab工厂。
• 固定资产投入规模：近5亿元人民币。
• 研发团队构成：由2位“千人计划”专家、6名博士、2名硕士组成，设有清华大学博士研究生实习基地。

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三、产品结构描述

纳米压印工艺应用于以下产品结构的成型与制造：

1. 微纳结构器件：包括微透镜、纳米光栅、纳米孔/柱阵列、斜齿光栅、V槽光栅及二维散斑结构，基材以硅基或玻璃基材料为主，结构层通过纳米压印形成高密度微图案。
2. 光学元器件：包括超透镜（Metalens）、微透镜阵列（MLA）、衍射光学元件（DOE）、线栅偏振片（WGP）、扩散片及氮化硅窗口片，结构设计包含曲率控制层与抗反射涂层。
3. 生物检测芯片：包括基因测序芯片、微流控芯片，芯片表面通过纳米压印形成高密度微阵列结构，用于核酸杂交检测。
4. 定制化加工模具：以PDMS、PET为主要翻制材料，形成柔性模具结构，用于复杂微结构的批量复制。

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四、功能与应用

纳米压印工艺在以下场景中发挥结构成型作用：

• 半导体微纳加工：用于5nm制程芯片的微结构加工，替代部分传统刻蚀工序，减少制程误差。
• 生物检测领域：应用于基因测序芯片、微流控芯片的微阵列结构成型，提升核酸杂交检测的通量与灵敏度，降低样本消耗。
• 光学元件制造：用于超透镜、微透镜阵列、衍射光学元件等的批量成型，适配智能驾驶（3D传感、雷达）、光通信（光纤耦合、信号处理）、消费电子（摄像模组小型化）、及显示领域的控光需求。
• 科研与定制加工：为科研机构、高校、半导体设备商及激光厂家提供复杂微结构打样与量产服务，覆盖多种基材与工艺组合。

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五、型号与规格

根据应用领域不同，纳米压印相关产品可选规格如下：

1. 微纳结构器件类

 

• 微透镜
• 纳米光栅
• 纳米孔/柱阵列
• 斜齿光栅
• V槽光栅
• 二维散斑结构

2. 光学元器件类

• 超透镜（Metalens）
• 微透镜阵列（MLA）
• 衍射光学元件（DOE）
• 线栅偏振片（WGP）
• 扩散片
• 氮化硅窗口片

3. 生物检测芯片类

• 基因测序芯片
• 微流控芯片

4. 定制化加工服务类

• PDMS柔性模具翻制
• PET柔性模具翻制
• 复杂微结构定制加工（湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀全流程可选组合）

以上型号与规格可根据客户具体应用场景（如半导体制程、生物检测、光学控光等）进行工艺参数调整与定制加工。

来源：央视线